PECVD等離子體增強化學(xué)氣相沉積是將低壓氣體放電形成的等離子體應用于化學(xué)氣相沉積的一項新技術(shù)。在PECVD裝置中，將基片置于低壓輝光放電的陰極上，通入適當氣體，在一定溫度下，利用化學(xué)反應和離子轟擊相結合的過(guò)程，在基片表面沉積成膜。所以，PECVD不但包括化學(xué)氣相沉積，同時(shí)又有等離子體放電的強化過(guò)程。
在眾多的等離子產(chǎn)生辦法中，駿鷹PECVD反應系統使用了高密度的等離子源，如高頻（RF-PECVD）、微波（MW-PECVD）和電子回旋共振（ECR-PECVD）。其濃密的等離子適用于薄膜太陽(yáng)能電池、表面改性、光和工業(yè)鍍覆、氮化硅鈍化、金剛石薄膜和其他。提供的PECVD系統可為客戶(hù)個(gè)體制造和研發(fā)需求量身定制。
MW-PECVD
駿鷹微波PECVD系統主要用于沉積金剛石薄膜。提供生產(chǎn)多種形態(tài)的薄膜、如類(lèi)金剛石碳(DLC)和單晶金剛石、納米晶體金剛石、超納米晶體金剛石以及單晶金剛石的加工方法。光學(xué)性能可以從烏黑到所有的光學(xué)級別。金剛石薄膜在光學(xué)級金剛石上可以達到1.2mm的厚度，而在黑金剛石上為2mm。我們的915 MHz MW-PECVD系統可鍍覆直徑高達4“/ 100毫米的基片。對于直徑2"/50 mm或更小的金剛石，使用2.45 GHz MW-PECVD系統更為經(jīng)濟。
真空室：內腔尺寸   φ500mm（直徑）×350mm（高）.
φ500mm×550mm
φ600 mm×500 mm             
φ700mm×500mm