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    電子導電薄膜專(zhuān)用磁控濺射鍍膜線(xiàn)
    電子導電薄膜磁控濺射真鍍機

    1.外觀(guān)尺寸:4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
    2.進(jìn)料區:可放置625mmχ505 mm料盤(pán)二十盤(pán),一盤(pán)Max 35個(gè)治具,一次入料Max可達700個(gè)治具,自動(dòng)送料盤(pán)結構配置一個(gè)KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary                   pump + Booster之低真空pump組合,抽氣速率可達10000 L/hr
     

    1.外觀(guān)尺寸:4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
    2.進(jìn)料區:可放置625mmχ505 mm料盤(pán)二十盤(pán),一盤(pán)Max 35個(gè)治具,一次入料Max可達700個(gè)治具,自動(dòng)送料盤(pán)結構配置一個(gè)KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合,抽氣速率可達10000 L/hr
    3.鍍膜製程區:本區域設計共8個(gè)濺射陰極,採用上方四個(gè)、下方四個(gè),並以左右對稱(chēng)之方式設計,配置一個(gè)10FCryo pump,前後     各配置一個(gè)(共兩個(gè))方形閘閥,使入料及出料可保持真空。
    4.出料區:二十盤(pán)料盤(pán),Max700個(gè)治具,一次出料自動(dòng)收料機構。
    5.電控裝置區:採用日本三菱PLC,高信賴(lài)度,易於保養維護。
    二:設計概念:

    採用最簡(jiǎn)化即是最佳化(Simple Is The Best)設計理念。針對以下問(wèn)題點(diǎn)做全面考量:
    • 腔體尺寸
    • 機構設計
    • 抽氣系統設計
    • 靶材更換便利性
    • 設備維護保養
    • 鍍膜品質(zhì)需求
    • 軟體功能設計
    • 生產(chǎn)效率
    三:系統特色
    • 腔體採用模組化設計,易於搬運及組合,機構易調校
    • 自動(dòng)送料、收料系統
    • 多靶濺射,生產(chǎn)速度快
    • 軟硬體高度整合以減少人為操作錯誤的可能性
    • 圖形化操作介面,易學(xué)易操作,動(dòng)態(tài)顯示設備運轉現狀
    • 控制電路板佔用空間小,設計上易維修與查線(xiàn)
    • 附換靶臺車(chē),省力方便。
    四:系統組態(tài)及系統規格
    4.1系統組態(tài):

    項目 名稱(chēng) 規格型號 數量 備註
    1 真空腔膛

    三腔式不銹鋼SUS304

     

     
    2 磁控濺射陰極 5”×22”   8  
    3 直流濺射電源 8KW(ADL) 8

    德國

    4 機械真空泵 ULVACVDN-902 1  
    5 高真空分子泵 KY-400分子泵 3

    或冷凍泵CTI 10F 

    6 高真空冷凍壓縮機 9600 3  
    7 機械真空泵+Booster ULVAC VDN-902+NB600    
    8 軸封 採用磁性流體斷真空

    5

     
    9 大門(mén)閥  10” 3  
    10 高低真空計    美國G.P 共4    
    11 Throttle Valve 蝶形  1  
    12 自動(dòng)GAB流量控制  Ar  1  
    13 PLC觸控系統   1  
    14 料盤(pán)

    625mm x 525mm

    20片    
    15 換靶臺車(chē)   1臺  

    4.2系統規格及技術(shù)指標:
     1. 控制系統;
      採用三菱PLC自動(dòng)控制+人機介面
     2.腔體Chamber
     材質(zhì):SUS304不銹鋼材質(zhì)外加Water Jacket出料區、進(jìn)料區大門(mén)材質(zhì)為鋁合金
     3.電漿源與靶材
     電漿源:磁控濺射源x 8、水冷式〈上方四靶,下方四靶〉靶材尺寸:5”x 22”x 1/2”Target
    固定方式:Clamp type 
    4.DC電源供應器
     MAX 8 KW水冷式

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