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    應用領(lǐng)域
    工藝品類(lèi)

     采用陰極電弧離子鍍膜設備:

          陰極電弧離子鍍膜設備是一種高效、無(wú)污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。

          陰極電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發(fā)、電離鍍料,結合脈沖偏壓技術(shù),提高沉積粒子能量和活性,增強膜層的各項性能。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進(jìn)行鍍膜;可以鍍金屬膜,氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜,還可以鍍氮化鈦摻金膜等。

          陰極電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬涂層,高爾夫球具、鐘表、衛浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。

    優(yōu)點(diǎn):

    •低運營(yíng)成本和最快的生產(chǎn)周期確保最高的工業(yè)標準和最具競爭力的成本,材料和能源消耗低
    •根據客戶(hù)的生產(chǎn)需求量身定制設計服務(wù)
    •快速,靈活的生產(chǎn)周期以及靈活,多功能的生產(chǎn)系統,能夠以市場(chǎng)上最快的周期運行,并配有自動(dòng)控制系統,可消除人為錯誤
    •所有操作階段均由具有自動(dòng)存檔和備份功能的PC進(jìn)行管理,該PC提供實(shí)時(shí)報告,系統和周期狀態(tài)數據,在整個(gè)過(guò)程中通知和指導操作員

     設備參數:

    爐體尺寸mm

    Ф2000xH2200

    有效空間

    Ф1800xH2000

    應用技術(shù)

    IET+SmallARC

    靶材數量

    20Pcsxφ100

    標準涂層

    TiN, CrN, AlCrN, etc.

    其他復合涂層

    TiAlCrN, TiSiN,TiAlCN,etc.

    生產(chǎn)周期

    0.5小時(shí)/爐

    外圍尺寸

    L6500xW5650xH2500mm

    使用范圍

    鉆頭、銑刀、齒輪刀具、拉刀、絲錐、鋸片、剪刀、刮面刀片、汽車(chē)的耐磨件等

    寧波駿鷹真空科技有限公司

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